(社)レーザー学会第459回研究会

「レーザーマイクロ・ナノプロセシング」の御案内

 

日時:201437日(金) 11:00-17:40

場所:宮崎市民プラザ(宮崎県宮崎市橘通西1-1-2http://www.siminplaza.com/access.html

共催:電気学会 光・量子デバイス技術委員会

講演時間:質疑応答を含め130分以内(発表25分,質疑応答5分程度),招待講演は50

参加費:無料(参加予約不要)但し講演資料は有料

本研究会資料の購入先:電気学会事業サービス課 TEL 03-3221-7313

担当委員(問い合わせ先):

中田芳樹(大阪大学)

E-mail: nakata-y@ile.osaka-u.ac.jp

電気学会担当委員:大越昌幸(防衛大学)

E-mail: okoshi@nda.ac.jp

 

プログラム

 

1.     フェムト秒レーザ励起増強散乱場による生分解性ポリマーのナノアブレーション

寺川光洋,矢田周平,有安和優,小原 豪,清水九史(慶應義塾大学)

 

2.     光励起によるZnOナノ・マイクロ結晶の紫外レーザー発振特性

中村大輔,下垣哲也,中尾しほみ,原田浩輔,村岡佑樹,東畠三洋,池上 浩(九州大学),中田芳樹(大阪大学),

岡田龍雄(九州大学)

 

12 :00-13:00 休 憩

 

3.     「招待講演」 真空紫外光源の開発とマイクロ・ナノプロセシングへの応用

甲藤正人,加来昌典,横谷篤至(宮崎大学),佐々木亘(NTP,窪寺昌一(宮崎大学)

 

4.     細胞接着メカニズム解明のためのフェムト秒レーザー衝撃力によって引き剥がした微小物体の運動解析

丸山彰大,上段寛久,坂口さや香,飯野敬矩,細川陽一郎(奈良先端科学技術大学院大学)

 

5.     Electrofluidics fabricated by flexible metal patterning in glass microfluidic structures using femtosecond laser direct writing

徐 剣,杉岡幸次,緑川克美(理化学研究所)

 

6.     Through-Silicon Via (TSV) drilling using femtosecond Bessel beams at 1.5 micron wavelength

HeFei(理化学研究所,中国科学院上海光学精密機械研究所),

WanZhaohui,ZengBin,ChengYa(中国科学院上海光学精密機械研究所),杉岡幸次(理化学研究所)

 

1520-15:40 休 憩

 

7.     酸化亜鉛ナノワイヤ成長制御へのレーザプロセスの応用

下垣哲也,山崎恒太,川原裕貴,中尾しほみ,原田浩輔,東畠三洋,池上 浩(九州大学),中田芳樹(大阪大学),

中村大輔,岡田龍雄(九州大学)

 

8.     超短パルスレーザー加工によるプラズモニック構造の作製

中田芳樹,島田直人,松葉良生,村川惠一,宮永憲明(大阪大学),東海林竜也(北海道大学),坪井泰之(大阪市立大学)

 

9.     パルスレーザー励起非平衡材料プロセスがもたらす階層構造形成: 超新星爆発とのアナロジー

梅津郁朗,冨永 望,須佐 元,秋宗秀俊(甲南大学)

 

10.   フッ素レーザを用いた鉄薄膜表面へのFe3O4酸化改質層の形成

大越昌幸,粟飯原雄太(防衛大学校),山下嗣人(関東学院大学),井上成美(防衛大学校)